如果用duv光刻机来加工照版成14nm，在刻蚀的时候多腐蚀一些有可能实现7nm芯片吗？ 第1页
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先科普一个半导体产业的原则：所有半导体芯片的制程必定是芯片设计师应用设计工具 EDA 所指定的规范，并经各种各样的程序把关直到全过程通过，才能试线或上线。
因此，光刻制程本身就是一种多重配套制造流程，包括多重黄光和光胶，脱离以及再生过程等等，所以需要从芯片设计软件EDA 中连贯成指定流程，包括光刻设备对接对应的批核。
结论是：甭想太多！这不是儿戏。
芯片设计师实操上不太可能以14纳米或以上的光刻设备全面产出7纳米线宽，即使所有光罩配套齐全，（非行业内人士很难理解光罩的作用）以 DUV 代用实验制程也不能在芯片的电路位置做出7纳米的线路，更绝对不可能量产7纳米。
再补充一句：光刻制程和设备的欠缺多是以讹传讹，甭再多提了吧！
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