长春国科说110nmKrF光刻机的光学装置已成功交付上海微电子，这个光刻机哪个地方使用？ 第1页
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KrF对应的是248nm波长光源的光刻机，有点奇怪……目前SMEE最先进的量产前道光刻机是SSX600，属于用436nm波长光源的i-line光刻机，也就是那台最高精度是90nm的国产光刻机。
如果按部就班的迭代发展，i-line光刻机的下一步确实是KrF光刻机……但是我们的02专项目标是跳级造ArFi光刻机啊（也就是193nm光源的DUV）
或许长春国科交付的是用于后道封装光刻机的？
毕竟光刻机种类也有很多，光刻机系统集成也很复杂，而测试和量产又是两码事。所以还是等官方的消息吧。
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