为什么芯片刻蚀不用电子或质子，这样不就不受光源波长限制了吗？ 第1页
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目前电子束光刻原理与扫描电子显微镜相同（所以基本上扫描电镜都可以当作电子束光刻机来用），使用的是聚焦到纳米尺度的电子束在光刻胶上逐点扫描出需要的图案从而实现电子束曝光。虽然理论上确实可以达到纳米级别的加工线宽，但逐点扫描的效率实在太低，只适合实验室加工简单图形，完全无法用于工业加工复杂的集成电路（一块CPU少说曝光几百次，用电子束扫描到天荒地老么）。而光学光刻机使用的则是较大尺寸的平行光，一次曝光直接形成某一工艺流程中所需要的全部图案，所需时间完全没有可比性。
所以为什么不能也把电子束做成光刻机中类似可见光或者紫外光那样的大尺寸平行光斑呢？因为目前电子光路中使用的电磁透镜实在太不完美了，仅仅能对近轴电子起作用，角度稍微大一点各种像差就大到无法接受，相比非常成熟的光学透镜来说还差了十万八千里，所以至少近些年还是老老实实地用波长更短的光吧。
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