ASML 表示「中国(大陆)不太可能独立造出顶尖光刻机，但也不那么绝对」，我们目前光刻机技术水平如何？第2页

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fatbowl 网友的相关建议:

我曾经在风投机构呆过一年，看过国外光刻机和EVU光源项目。而这家机构的股东包括三星半导体和英特尔。

这么说吧，顶尖光刻机是整个西方工业体系的结晶，中国要以一国之力对抗全世界，你说独立造出来难不难？

当年ASML的EUV光刻机没有信心做下去了，三星，英特尔纷纷出钱。因为如果没有极紫外光刻机，摩尔定律就到头了。ASML的光源来自美国Cymer，透镜系统来自德国蔡司，在制造过程中，和客户保持合作，对原型机进行不断的验证。可以说ASML整合了整个供应链，才能制造出光刻机

单说EUV光源，这个ASML自己也做不出来，而是来自Cymer，当然，为了整合产业链，Cymer已经被ASML收购。光源不仅需要能够激发EUV，并且功率要达到250w才能商用。看起来很容易，但是实际操作起来困难重重。

首先EVU很难产生，目前只能通过等离子或者同步加速器激发。商用的EUV技术原理为使用高功率的二氧化碳激光，在真空容器中轰击金属锡微液滴，将其加热并产生激发EUV的等离子体。Cymer的EUV光源系统使用高功率的二氧化碳激光，在真空容器内每秒轰击50，000个由熔融锡组成的微液滴。当激光束轰击熔融锡微液滴的时候，会将其加热并产生能激发EUV的等离子体，随后一个负责收集的镜片系统将该过程产生的光投射到扫描设备上。但是该设备因为使用熔融锡液滴，因此很容易被锡污染，需要在收集镜表面一直通氢气以防止其表面迅速被锡覆盖。

另外整个光源的转化率非常有限，ASML和Cymer做了大量努力的前提下，10-40kw的激光只能产生100-250w的EUV，算是勉强可用。算起来，能效不到0.0125%。可以看到，仅仅是EUV光源的制造就涉及到高能物理，材料学，光学等一系列学科的共同努力。更不要说整个光刻机的复杂系统了。

2018年，EUV光源公司Lyncean进行了2000万美元的融资，该公司采用同步加速器技术产生EUV光源，和Cymer的技术路线不同，号称更加先进有效。有趣的是，融资并非来自ASML，而是来自英特尔和三星。而在Lyncean的商业计划中，下一步是和ASML共同开发验证。所以可以看到一台小小的光刻机，不是ASML能够单独搞定的，是来自上下游的共同努力。

ASML固然牛，但是真正要赞叹的是整个西方几百年来的科学技术成果和积累。所以说光刻机是人类技术皇冠上的明珠一点也不为过。

(关注我的朋友都知道我是欧莱雅的化妆品原料专家，不过因为博士是化工背景，在材料和高科技的投资机构也能苟一年)

lei-feng-mei-you-si 网友的相关建议:

很多人都以为，中国研发EUV光刻机，追赶的目标是荷兰阿斯麦，可实际却是在挑战整个西方最尖端的技术，因为阿斯麦EUV光刻机的关键部件，包括美国Cymer的光源、德国通快的激光器、德国蔡司的光学系统、英国爱德华/Edwards的真空系统、德国柏林格拉斯/Berliner Glas的静电吸盘等。

虽然我国是全世界唯一拥有联合国产业分类中，所列全部工业门类的国家，有41个工业大类、207个工业中类、666个工业小类，形成了独立完整的现代工业体系，但是各行各业仍然存在各种“卡脖子”问题。

大多数“卡脖子”领域，国外一般不会实行禁售，因为外国企业不想放弃中国市场，给中国企业成长的空间。但是半导体就不一样了，国内企业采购半导体设备，就遭遇到了限制，一方面是因为贸易问题被政治化，另一方面是因为中国半导体设备的竞争力还不够。中国掌握了技术，并形成竞争力，外国企业就会解禁，甚至降价，这种情况已经被验证过无数次了，关键还得看国产半导体设备的竞争力，打铁还需自身硬啊。

接下来就说说各种半导体设备的竞争格局，以及国产化情况，重点关注光刻机等关键设备的最新进展，今天的内容都是纯干货，数据比较多，看完后相信大家对半导体设备行业，会有一个客观全面的认识，也更能深刻地理解到，中国以一国之力造光刻机的难度有多大了。

好了废话不多说，直接上数据。全球去胶设备销售额约5亿美元，韩国PSK占30%，美国泛林半导体/Lam Research占28%。国产化率为80%，国内厂商有：北京屹唐。

全球热处理设备销售额约18亿美元，美国应用材料/Applied Materials占49%。国产化率为20%，国内厂商有：北方华创、北京屹唐。

全球清洗设备销售额约30~35亿美元，日本迪恩士占40%。国产化率为20%，国内厂商有：盛美、北方华创、沈阳芯源、至纯科技。

全球化学机械抛光机(CMP)销售额约20亿美元，美国应用材料/Applied Materials占70%。国产化率为15%，国内厂商有：华海清科、中电装备。

全球量测设备销售额约60亿美元，美国科磊半导体/KLA-Tencor占52%。国产化率为1~2%，国内厂商有：上海精测、上海睿励、中科飞测。

全球测试机销售额约30~35亿美元，美国泰瑞达/Teradyne占46.7%，日本爱德华/Advantest占35.3%。国产化率2%，国内厂商有：华峰测控、长川科技。

全球分选机销售额约9亿美元，美国科休半导体/Cohu占21%，美国科利登/Xcerra占16%。国产化率2%，国内厂商有：长川科技、台湾鸿劲。

全球涂胶显影销售额约20亿美元，日本东京电子占87%，日本迪恩士占10%。国产化率为1%，国内厂商有：沈阳芯源。

全球探针台销售额约10亿美元，日本东京电子占46%，日本东京精密占42%。国产化率约为0，国内厂商有：深圳矽电、中电45所。

接下来，重点关注半导体设备四大核心装备：镀膜机、刻蚀机、离子注入机、光刻机。

先说说镀膜机，物理气相沉积(PVD)真空镀膜设备的销售额约30亿美元，美国应用材料/Applied Materials占85%。国产化率为10~15%，国内厂商的进展情况：北方华创研制出具有自主知识产权的13款PVD产品，并成功产业化，设备应用跨越90纳米至14纳米的多个技术代，并成功进入了国际供应链体系，从2012年设备销售至今，已实现超过200台设备的销售。

化学气相沉积(CVD)真空镀膜设备销售额约80亿美元，美国应用材料/Applied Materials占29%，日本东京电子占21%，美国泛林半导体/Lam Research占21%。国产化率为2~5%，国内厂商的进展情况：北方华创的CVD设备，获得多家国内企业的批量采购。

沈阳拓荆自主研发出国内首台，可用于128层及以上 3D NAND（三维）闪存芯片生产的叠层薄膜沉积设备。

原子层沉积(ALD)镀膜设备销售额约15亿美元，日本东京电子占29%，荷兰ASM占24%。国产化率约为0，国内厂商的进展情况：北方华创2018年开始ALD设备的销售，实现零的突破。

沈阳拓荆的12英寸ALD设备，已通过客户端14nm工艺验证。

金属有机化学气相沉积(MOCVD)设备销售额为5.53亿美元，德国爱思强/Aixtron占46%，美国维易科/Veeco占27%，中国中微公司占23%。中微公司已经在全球MOCVD设备市场占据领先地位，是目前国产半导体设备取得的最大突破。

刻蚀机方面，蚀刻设备销售额约140亿美元，美国泛林半导体/Lam Research占47%，日本东京电子占26%，美国应用材料/Applied Materials占19%。国产化率为15~20%，国内厂商的进展情况：北方华创的集成电路硅刻蚀机，已突破14nm技术，并且已经进入主流芯片代工厂。

中微公司可以量产全球最高水平的5nm刻蚀机，28nm、16nm、5nm蚀刻机已经被台积电采用。

这里有必要提一个人，中微公司董事长兼总经理——尹志尧博士，尹志尧曾任职于英特尔、泛林半导体、应用材料，参与并领导了国际几代等离子体刻蚀机的研发。

2004年，尹志尧和一批行业专家一起回国创业，短时间内就让我国突破了国际刻蚀机的技术垄断。2019年美国VLSI Research将他和英特尔董事长等10名国际领军人物，评选为“全球半导体行业明星榜 All Star”。

离子注入机方面，在半导体晶圆制造设备当中，离子注入机是开发难度和单价，仅次于光刻机的设备，存在较高的行业竞争壁垒，其中低能大束流离子注入机，和高能离子注入机技术难度最高，低能大束流离子注入机，价格大概在3000至3500万元，高能大束流价格大概在6000至6500万元。

离子注入机销售额约16亿美元，美国应用材料/Applied Materials占70%，美国亚舍立/Axcelis占18%。国产化率1%，国内厂商的进展情况：电科装备的中束流、大束流离子注入机，广泛服务于全球知名芯片制造企业，自主研制的高能离子注入机取得突破，成功实现百万电子伏特高能离子加速，性能达到国际先进水平。

2020年，凯世通共获得4个集成电路离子注入机设备订单，涵盖低能大束流、高能离子注入等工艺，凯世通的超越7纳米的离子注入平台，已通过客户验证并取得验收。

这里有必要提一下凯世通创始人——陈炯博士，陈炯是国际离子注入技术协会终身常务理事，被公认为是行业内最有技术创意的领军人物，和国际级的离子注入设备专家，他曾以著者或合著者的身份发表论文15篇，拥有16项美国专利。曾是全球第三大离子注入机制造商汉辰科技/AIBT的创始人之一，带领美国团队成功开发了两代大束流离子注入机。

光刻机方面，光刻机设备是所有半导体设备中，复杂度最高、精度最高、单价最高的设备。

全球光刻机销售额为130多亿美元，荷兰阿斯麦占91%，日本尼康占6%，日本佳能占3%。国产化率约为0，国内厂商的进展情况：上海微电子的SSX600系列步进扫描投影光刻机，可满足90nm、110nm、280nm工艺，可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产，28nm光刻机有望在今年交付。

虽然上海微电子在集成电路制造领域的光刻机，占有率比较低，但在其他领域还是很牛逼的，就比如说上海微电子的封装光刻机，国内市场占有率达到80%，并且出口到海外，全球市场占有率为40%。另外，LED光刻机市场占有率也达到了20%。

接下来说说国产光刻机关键子系统方面的突破，国科精密，研发出我国首套用于高端IC制造的光刻机物镜系统，目前承担多种光刻机曝光光学系统的研发工作。

科益虹源，是世界第三家高能准分子激光器的研发制造企业，打破了美国和日本厂商对该产品的长期垄断。

华卓精科，是世界上第二家掌握双工件台核心技术的公司，打破了荷兰阿斯麦的独家垄断。华卓精科干式的双工件台，售价约2000万元，浸jìn 没式的双工件台，售价约6000万元。

启尔机电，是世界上第三家浸液系统制造商，国际上仅阿斯麦和尼康拥有浸液系统技术。

再来说说EUV光刻机，极紫外(EUV)光刻机是最高端的光刻机，是光刻机皇冠上的明珠，2020年阿斯麦EUV光刻机单价超过1.4亿欧元。

光源波长和物镜决定了光刻机的分辨率，下面说说EUV光刻机的光源和物镜。

光源方面，阿斯麦EUV光刻机的激光等离子光源，由美国Cymer提供，采用了德国通快的脉冲式高功率激光器。

物镜方面，目前德国蔡司为阿斯麦EUV光刻机提供的物镜数值孔径为0.33，400毫米的物镜波像差为50皮米/0.05纳米。

蔡司已经开始制造下一代EUV光刻机物镜，数值孔径为0.5，1.2米的物镜波像差为20皮米/0.02纳米，是进一步提升分辨率的关键。

再说说国内EUV光刻机研发进展情况：机械与真空系统方面，光电所承担机械与真空系统的研制，突破了曝光装置高稳定的真空环境、主动减振、自动输片系统、高精度工件台控制、纳米级调平调焦测量系统等关键技术，在工件台控制、精密测量技术等领域取得了一系列原创性成果，累计申请发明专利31项，其中国内专利28项，国际专利3项。

物镜系统方面，长春光机所突破了超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等核心单元技术，成功研制了波像差优于0.75纳米(RMS)的两镜EUV光刻物镜系统，构建了EUV光刻曝光装置，是国内首次获得EUV投影光刻32nm线宽的光刻胶曝光图形。

最后总结一下，表面上看，中国研发EUV光刻机是在追赶阿斯麦，实际却是在挑战西方最尖端的技术，阿斯麦EUV光刻机的关键部件，包括美国Cymer的光源、德国通快的激光器、德国蔡司的光学系统、英国爱德华/Edwards的真空系统，德国柏林格拉斯/Berliner Glas的静电吸盘等。

目前国产半导体设备与国外先进企业仍然存在较大的差距，要知道的是，之前我国集成电路行业的高端装备，基本处于空白状态，完全依赖进口，产业链严重缺失。庆幸的是，现在，中国已经实现了从无到有的突破，建立起了完整的产业链，相信不久之后我们会突破更多卡脖子技术。

leon-84-25 网友的相关建议:

继续做个搬运工，给大家看看老外怎么看这个问题，某个荷兰人，据说认识很多ASML的人。

我认为我是回答这个问题的最佳人选。我在半导体行业工作多年，目前居住在荷兰，在中国生活和工作了3年，我认识很多来自ASML的工程师（尤其是在他们雇佣了数百名土耳其工程师之后）。让我告诉你：高端半导体制造业是一种黑魔法。用于它的过程和工具都非常复杂。ASML的EUV光刻机可能是人类自停止在树间跳跃以来开发的最复杂的工具。它花费了数十亿欧元和数十年的经验来完善它。其他有经验的光刻机供应商在这方面失败了。中国在高端半导体制造工具方面没有经验，但一次性/少量原型除外。

I think I am the perfect person to answer this. I have been working in the semiconductor industry for years, currently living in the Netherlands, lived and worked in China for 3 years, I know a lot of engineers from ASML (expecially after they hired hundreds of Turkish engineers). Let me tell you something: High-end semiconductor manufacturing is black magic. Both the processes and tools used for it are very complex. ASML’s EUV lithography machine is probably the most complex tool humankind ever developed since it stopped jumping between trees. It took billions of Euros and decades of experience to perfect it. Other experienced lithography machine suppliers failed at it. China has no experience in high-end semiconductor manufacturing tools with the exception of one-off/few-off prototypes.

ASML的EUV光刻机。运输需要41辆半卡车，成本为1.5亿美元，有10万个主要部件，有镜子需要数月的打磨才能达到所需的平滑度，需要多个拥有博士学位的人作为机器操作员。相当高科技，不是吗？

不幸的是，ASML对美国来说是一个非常方便的目标。该公司使用了大量来自美国的关键部件，但这些部件在美国经济中的货币价值并不显著。中国电子行业仍然依赖外国芯片，因此不能以禁止在中国销售使用ASML工具制造的芯片来威胁晶圆厂。此外，中国也不是ASML的大客户。简言之，中国不能以对等制裁作为回应。

中国绝望了吗？不

1-所有这些工具都是由人类设计和制造的，物理定律在荷兰和中国都是一样的。如果荷兰能够做到，那么其他任何国家都没有理由以正确的方式失败。

2.与荷兰相比，中国的财富实力强太多了。中国的经济是荷兰的17倍，韩国的9倍，台湾的27倍，日本的3+x。在国家的支持下，中国的工厂和工具制造商可以用ASML、LamResearch、AM、Synopsys、台积电、三星……根本无法与之竞争的薪水从世界其他地方雇佣顶尖人才。不管怎么说，这些公司的员工中有很大一部分是外籍人士，他们中的大多数人只是为了赚钱。事实上，中国已经成功地做到了这一点，并取得了良好的效果。例如，它已经有了一台可用的EUV光刻机原型，在芯片测试、封装、晶圆生产等方面已经赶上了其他公司，而且它的第一台浸没式光刻机（对大多数事情来说已经足够好）正在准备商用。

3.中国本身就是一个科学强国。该国拥有最多的专利申请、最多的研究产出、比任何其他国家都多的STEM毕业生、第二大研发支出国，在前100名中有11所大学。这就引出了我的第一点。如果荷兰可以，如果有足够的时间，中国也可以。

4.追赶比创新容易得多。知道某件事是可能的，并且对它的工作原理有一个大致的了解，这会使事情变得更容易。

5-时间在中国这边。半导体技术已经接近成熟/停滞（根据你的观点选择这个词）。如果发展放缓（确实如此），中国就有机会迎头赶上。如果发生了一场技术革命，那么不管怎样，竞争环境都是平等的。

6-大多数事情你都不需要EUV。大多数事情甚至不需要高端流程。半导体不仅仅是最新的智能手机处理器、GPU和CPU。看看iPhone 12拆卸视频。你会看到很多芯片。其中只有一个需要EUV。一辆普通的现代汽车里有250多台电脑。这意味着成千上万的芯片。所有这些都是使用旧工艺制造的。这在军事和太空应用中更是如此。这些芯片使用非常古老的芯片，众所周知，它们是可靠和安全的。

结论：阻止ASML向中国销售EUV机器可能会在一段时间内伤害中国企业，但在大计划中，这是无关紧要的。如果美国想保持其在科技领域的主导地位，就需要加快速度，而不是继续试图阻止中国。

1- All of those tools are engineered and made by humans, and the laws of physics are the same both in the Netherlands and China. If the Netherlands could, then there is no reason for anybody else to fail with the correct approach.

2- China is filthy rich compared to the Netherlands. Chinese economy is 17x of the Netherlands’, 9x of SK’s, 27x of Taiwan’s, 3+x of Japan’s. With state support, Chinese fabs and tool makers can hire the top people from the rest of the world with salaries ASML, LamResearch, AM, Synopsys, TSMC, Samsung, … simply can not compete with. A significant portion of these companies’ employees are expats anyway, most of them are just after money. In fact China is already doing this successfully with good results. For example, it already has a working EUV lithography machine prototype, already caught up with the rest in chip testing, packaging, wafer production, also its first immersion lithography machine (good enough for most things) is getting prepared for commercial use.

3- China is a scientific powerhouse on its own. It is the country with most patent applications, most research output, graduates more STEM students than any other country, 2nd largest R&D spender, has 11 universities in top 100. This leads us to my first point. If the Netherlands could, so can China if given enough time.

4- Catching up is much easier than innovating. Knowing something is possible and having a general knowledge of how it works make things much easier.

5- Time is on the Chinese side. Technology of semiconductors is close to maturity/stalling (choose the word depending on your view). If the development slows (which it does) it gives China the opportunity to catch-up. If a tech revolution happens, then the playing field evens out anyway.

6- You don’t need EUV for the most things. You don’t even need high-end processes for the most things. There is more to semiconductors than the latest smartphone processors, GPUs, and CPUs. Look at iPhone 12 teardown videos. You will see a lot of chips. Only one of them needs EUV. An average modern car has 250+ computers inside. That means thousands of chips. All of them are manufactured using old processes. This is even more true for military and space applications. Those use very old chips that are known to be reliable and secure.

Conclusion: Blocking ASML from selling EUV machines to China can hurt Chinese businesses for some time but in the grand scheme it is insignificant. The USA needs to run faster rather than keep trying to block China if it wants to preserve its dominance in tech.

present-is-gift 网友的相关建议:

asml公司的euv光源，也就是euv光刻机最核心的技术其实是美国的技术。早年asml想要自己研发独立的光源，但是因为进度不够理想，所以采取了并购方案把美国造光源的cymer公司并入。

而euv光源本身就在瓦森纳协定里，属于是美国对外的管制出口品。因此没有美国政府点头，euv光刻机是不可能出口到中国去的。

而作为一家公司，扩大利润，实现增值是它真正的目的。目前台积电，Intel和三星三家公司有euv光刻机，但是三家公司的需求就那么大。假如能够打开中国市场，那意味着几百亿乃至上千亿的销售额。从公司发展的角度来说，这自然是巨大的机遇。

但是现在尴尬的是，郎有情，妾有意，就是有人棒打鸳鸯。

asml公司的高层在不同场合多次释放过不同的信号。一会儿说两万多个高精密部件，全网连控监测(立刻asml公司的授权，机器可以秒变废铁)，中国人不可能逆向工程，复制。一会儿说，中国不可能独立制造。但是一会儿又说，全面封锁很不明智，15年中国就能造出自己的euv光刻机。……

其实核心的意思还是想进入中国市场。因为不让进入中国市场，那么利润也不过是让芯片制造商给全拿了。对于光刻机制造商没有任何好处！

如果不能进入中国市场，中国如果能用15年自己造出来，那么asml将彻底失去中国市场中国不能造出来，asml也一分钱赚不到。

至于中国目前的水平，我没机会接触实在不太好说。仅凭感觉的话，我个人的感觉是，这种科学理论都已经完备的工程类的技术实现起来只会越来越容易。

中国差就差在缺少一个完整的产业链，很多配件都不能自主生产，买也买不到。但是这些东西也不是说就完全造不了，只是要花很多世界去试，去产业化，去标准化。

就我个人的感觉，好要个十四五年才会有个结果。不过，恐怕十年左右，asml进入中国市场就能实现了。

enzojz 网友的相关建议:

阿斯麦其实是非常想和中国做EUV生意，但是无奈被当成了棋子。

wang-you-ling-45 网友的相关建议:

先说一句，我给帽子姐点了赞。

题主问的这个问题，和技术既有关，也无关。

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我问一个问题：为什么苏联一定要搞经互会内循环？苏联人难道不知道，欧美列强远远比它的卫星国先进得多，和他们做生意，互通有无，效益难道不是高得多吗？二战前、二战中，苏联从欧美国家的技术引进、经贸往来，可是相当多的啊，为什么二战后行不通了？苏联以外的国家也一样，19世纪大清和日本都能买到欧洲列强刚造出来的先进军舰，为什么二战后的后发国家再想买就等同做梦？

——因为垄断不是靠一个国家就能完成的。

二战结束前，所谓的“西方世界”是不团结的。英法美德意等列强矛盾重重，有实力高下之分，但谁也控制不了谁。它们从来就不是一个具有共同利益的整体，怎么把同行打下去才是首要目标，甚至发展为两次世界大战。各国斗得根本无法形成统一的产业链和森严的技术壁垒。

但二战结束后形势变了，老欧洲打烂了，轴心国战败了，老牌殖民帝国被肢解了，美国依靠绝对实力在西方世界占据压倒性的统治地位，再也没有任何“西方国家”能挑战美国，美国得以把所有“列强”的产业链统合到一起，把相互之间的技术和经贸壁垒砍掉了一大半，“列强”变成了美国的扩大概念，也可以叫“美朝及其藩属”，美利坚世界帝国的范围还包括日韩澳新台等环太平洋国家/地区。

美国巨幅降低了“西方世界”的内耗，让它们以“政治意义的西方”的边界作为划分“人民内部矛盾”和“敌我矛盾”的依据，形成了一个空前强大的共同体。

这么一来，帝国范围以外的国家就要面临一个极为庞大的集体壁垒，获取技术的门槛和成本明显提高，不得不以一己之力对抗一大群产业链既先进又互补的先发列强，难度可想而知。帽子姐说“居然被炮口下的产业链断供”，也太委婉了，你若想动用大炮阻止，就要和整个“美朝”及其藩属全面对抗，任谁都很难轻举妄动。

集中力量造光刻机，当然可以，但光刻机需要的配套产业链太庞大了，而光刻机又只是整个半导体产业链的一小部分，半导体又是整个现代工业的一小部分。烧钱？你一国之力，烧得过那么多列强吗？在美国不严重衰退、“美朝”不大幅收缩的情况下，讨论“中国能不能造出光刻机”是没有意义的，就算花费巨大代价取得局部胜利，也改变不了整体被持续压制，内部红利持续消耗，矛盾不断积累的局面，新冷战失败只不过是时间问题。力量对比从来就不是精神原子弹能解决的。

所以人家ASML一点都没错，中国要挑战“西方世界”的科技霸权，不太可能，“光刻机”只是一个代称，具体叫什么并不重要，整体格局没有改，花十几年玩命烧钱烧出一个光刻机改变不了什么。

但之所以“不那么绝对”，是因为现在的美国不像十几二十年前那么不可一世，对内对外都出现了裂痕。虽然中国面临着贫富分化加剧、阶级固化形成、老龄化加深等诸多问题，仅以内生造血的动力而言，长远的后劲值得怀疑，但美国是不是一定可以在把中国熬进内卷衰退的深渊之前，始终保证自己在世界范围内“长臂管辖”（包括军事和非军事）的有效性，阻止中国从外部得到新血破局呢？

在2022年看这个问题，答案就变得不太确定了。不过有一点可以确定：这是一条不归路，并且已经上了快车道，现有格局不会维持太久，在我们这代人的寿命期限内，几乎必然看到美朝的垮台，或者中国的崩溃，区别只在于，你觉得哪个概率更大。

bu-lang-ya-69 网友的相关建议:

最尖端的光刻机汇聚了全世界最先进的技术，中国现在的高端制造业根本没有这样的实力。

但同时光刻机是结果而不是过程，中国造光刻机并不是没有意义的，这条路上每个零件每前进一步，对中国来说都是相关领域的巨大进步。

如果认为这件事太难了躺平算了，那别说现在这个时代，下个下下个时代的尖端科技都不会有中国一席之地。

就像多年前广东试点第一代移动通信网络，因为我国在领域内一片空白，只能任由西方大企业当猪宰，当时还是找香港企业借了一笔美元才把这个事情做成。

如果当时中国人躺平了，还能有后来2G到5G话语权的跨越式进步？

吃第七张饼饱了，于是后悔吃了前六张饼。

我以为知乎作为国内的“高端”社区，应该人人都懂这个笑话在讽刺什么。

很显然我错了，但我分不清某些人是真蠢还是在装蠢。

我开头都已经承认“中国现在能力有限，没有办法染指最先进的光刻机”。

按照神神们的看法，我没有沸腾没有中国天下第一，不是应该要被兔兔战狼粉红冲了吗？

然而事实上，到目前没有什么兔兔言辞激烈地指责我“不爱国”，反倒是有一些神神跳出来，对我进行多角度冲塔。

有些评论太过辣眼睛，我直接删除了，比如有个人表示“没有美国技术输出我们追赶进度只可能是负的”，说我“片面强调独立自主”……

这个神友怕不是体制内写八股文的吧？

bao-yu-15-25-66 网友的相关建议:

光刻机水平如何?有差距，需努力。

但可能不可能造出顶尖光刻机。我想起了一段话。我在这里引用一遍，也请大家用湖南口音和我一起大声朗读:

“让那些内外反动派在我们面前发抖吧，让他们去说我们这也不行那也不行吧，中国人民的不屈不挠的努力必将稳步地达到自己的目的。”

hu-li-ang-92 网友的相关建议:

投降论和速胜论都是一类人，那就是投降主义者，因为这2类人都缺乏长期抗争的勇气和决心。一个企图认输，一个企图通过赌博冒进的决战来快速取得胜利。

教员真的吊

blackwarrior-63 网友的相关建议:

十几年前我记得那会一直在嘲笑中国没战斗机，都用的是苏式战机。

后来中国出了国产战斗机，那帮人嘲笑中国战斗机型号旧。

后来中国有了歼20，那帮人后来嘲笑没有的预警机，运输机，现在全有了。

在之前，一直嘲笑中国的潜艇声音大，在水下噪音太大，地球人都知道中国潜艇在哪。现在中国潜艇的技术世界顶尖。

以前说中国连航母都没有，巴西，印度都有，中国却没有。后来中国有了两艘，印度还是原来那艘英国的几十年二手货。

之前读者文摘意林嘲笑中国造不出圆珠笔芯，结果中国随便投资个二千万，就为了堵这些人的嘴，一下子就搞出来了。

从经验上来看，无论是原子弹，还是北斗，我们国家就没有解决不了的困难。

芯片这事确实难，但我可以拿全部身家赌中国一定会在50年内造出国产芯片，你说中国人会被这事彻底难住，我是真不信。

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