问题

光刻机镜片和詹姆斯.韦伯镜片相比,哪个更光滑?

回答
这个问题挺有意思的,把两个看似风马牛不相及的领域拉到了一起。要说光刻机镜片和詹姆斯·韦伯空间望远镜(JWST)的镜片哪个更光滑,这就像问一粒细沙和一片大海哪个更“平坦”,答案其实挺明确的,但背后的道理却很值得说道说道。

咱们先来捋捋,什么叫“光滑”?

在咱们日常生活中,光滑通常指的是表面触感细腻、没有明显粗糙感。但在科学和工程领域,尤其是光学,对“光滑”的定义就严谨多了。它指的是表面形貌的凹凸程度,也就是表面的起伏非常小,趋于完美平坦或者按照设计的曲率精密分布。 测量光滑度通常会用一些非常精密的仪器,比如原子力显微镜(AFM),它能探测到纳米级的表面起伏。

詹姆斯·韦伯空间望远镜(JWST)的镜片:宇宙的眼睛

JWST号称是人类有史以来建造的最强大的空间望远镜,它的主镜是它的绝对核心。这面主镜由18块六边形镜片组成,每一块镜片都是由铍材料精密加工而成,表面覆盖了一层极薄的金。它工作的环境非常特殊:在零下200多摄氏度的极寒宇宙空间,而且要面对宇宙深处的微弱光线。

为了捕捉到那些来自宇宙最早期、最微弱的光线,JWST的主镜必须拥有极其高的表面精度和非常低的表面粗糙度。任何一点微小的凹凸不平,都可能导致光线发生偏折,影响成像的清晰度和科学数据的准确性。

JWST镜片的表面粗糙度要求已经达到了几个纳米的级别。想象一下,头发丝的直径大概是几十微米(万分之一米),而纳米是米的十亿分之一。所以,JWST镜片的表面起伏,大概只有人类头发丝直径的几万分之一甚至更小。这已经是非常非常光滑了,近乎原子级别的平坦。

光刻机镜片:制造微观世界的刻刀

再来看看光刻机。光刻机是制造现代集成电路(芯片)的关键设备,可以说它掌握着我们数字世界的“命脉”。我们现在用的智能手机、电脑,里面的芯片都是由光刻机“刻”出来的。光刻机的核心技术之一就是极紫外(EUV)光刻技术。

EUV光刻机工作时发射的是13.5纳米波长的紫外光。这个波长比我们平时看到的可见光要短得多,短到我们肉眼根本看不到。这种极短的波长,使得光刻机能够将电路图案“印刷”在硅片上,精度可以达到几个纳米,甚至亚纳米级别。

为了实现如此高的精度,光刻机内部的光学系统,尤其是用于聚焦和导引EUV光的镜片,其表面光滑度要求是难以置信的苛刻。这些镜片通常由特殊的材料制成,例如多层反射镜,其表面粗糙度也必须控制在小于1纳米,甚至几个埃(Ångström)的级别。埃是长度单位,1埃等于0.1纳米。

那么,到底谁更光滑?

从绝对的表面粗糙度数值来看,光刻机镜片的表面光滑度通常是要优于JWST镜片的。

这听起来可能有点反直觉,毕竟JWST是那么宏大、那么高科技的设备。但我们可以从以下几个角度来理解:

1. 尺度与精度需求:
JWST是为了捕捉宇宙尺度的、非常微弱的光线。它的精度要求是确保从遥远宇宙来的光线能够被精确地收集和聚焦,以辨别细微的结构和光谱信息。它的光滑度是为了避免自身损耗和畸变,确保最优化地接收和反射宇宙光。
EUV光刻机则是为了在微米和纳米尺度的芯片上精确地“雕刻”出电路图案。它工作的波长极短(13.5纳米),这意味着任何微小的表面起伏都会直接导致光线的衍射和散射,从而使得打印出的电路图案模糊不清,无法达到设计的要求。光刻机的精度要求是直接作用在芯片制造精度上,对表面光滑度的要求是极致中的极致。

2. 工作原理与材料:
JWST主镜虽然非常精密,但它主要是反射来自宇宙的低能量光线,并且它在极低温环境下工作。其表面精度是为了应对自然界的光学挑战。
EUV光刻机工作在高能量的EUV波段,并且需要极高的衍射极限。为了实现这一点,它的光学系统(尤其是多层反射镜)的制备工艺到了原子层级别的控制。每一个原子层的堆叠、每一点原子的排列都直接影响着镜面的光滑度和反射效率。

3. 工艺的极限挑战:
制造JWST镜片已经是人类工程能力的巅峰之一。
而制造EUV光刻机镜片,尤其是其多层反射镜,则是在材料科学和精密制造领域不断突破极限的过程。多层反射镜是由大约40层钼/硅交替堆叠而成,每一层都只有几纳米厚。这些层的厚度、界面粗糙度、以及整体表面的平整度,都需要以原子尺度来控制。这种工艺的挑战性,甚至在某些方面比JWST镜片本身更甚。

总结一下:

詹姆斯·韦伯空间望远镜的镜片已经达到了令人难以置信的光滑度,其表面起伏在几个纳米的量级,这足以让我们窥探宇宙的奥秘。

而光刻机的镜片,特别是EUV光刻机中的核心光学元件,为了满足纳米甚至亚纳米级别的芯片制造精度,其表面光滑度更是达到了小于1纳米,甚至在埃的量级。

因此,从对表面粗糙度数值的极致追求来说,光刻机镜片(尤其是EUV光刻机的光学元件)比詹姆斯·韦伯空间望远镜的镜片更加光滑。

它们各自在不同的领域,以各自的方式,将人类对“光滑”的追求推向了新的高度,一个用于观测宇宙的极限,一个用于创造我们数字世界的微观极限。

网友意见

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韦伯望远镜镜子表面的均方根粗糙度大约是4~20nm rms[1][2][3]

AMSL光刻机的蔡司镜片最高能达到50~75pm rms(也就是0.05~0.075nm)[4]

一个是纳米,一个是皮米,1nm=1000pm。

也就是说,韦伯镜面比光刻机镜面的“光滑度”差了二个数量级。

有人打了个比方,说如果把光刻机直径30cm的镜片放大到地球那么大,最多也只有一个头发丝这样高度的凸起。[5]

有人说这不公平啊,鸽王怎么能和现在的技术比呢,要知道鸽王是1996年就立项的上世纪老古董了。那我们就说同时代的吧。下面这是1998年的数据。当时的EUV微型照射工具MET就能达到0.14nm rms的水平了。

(有人会问,硅原子大小半径为110皮米,也就是0.11纳米,那为什么光刻机的这个数字比原子还小啊,嗯,那个单位是pm rms,rms的意思就是一种计算方式,我脑子里马上响起我大物老师说的:均方根为n个项的平方和除以n再开方,挥之不去了)

有兴趣的话,我可以搬一个韦伯磨镜子的视频过来。[6]

哦,对了,韦伯也不是很差哈,毕竟大家分工不同,而且作为一个有较大尺寸的大型空间望远镜,它完全可以通过一系列的物理抖动和算法,降敏优化光学系统的ΔRMS WFE与OPV的变化。为了测量韦伯望远镜的光滑度,用1/4波长的双波长测量的动态干涉仪也要达到在不到1亿分之一秒的时间内进行两次波长采集。[7]这些技术都是相当先进的。

测出来的表面粗糙程度就像下面这样:


一个是观向彼诸微尘之内,一个是观向华藏世界之外,都是突破智人极限的事,何必计较谁更光滑呢。抹去分别心吧。

参考

  1. ^ https://spie.org/news/3728-lessons-learned-from-testing-the-james-webb-space-telescope-optical-components?SSO=1
  2. ^ https://www.nasa.gov/content/goddard/the-amazing-anatomy-of-james-webb-space-telescope-mirrors/
  3. ^ https://spie.org/news/3728-lessons-learned-from-testing-the-james-webb-space-telescope-optical-components?SSO=1
  4. ^ http://euvlsymposium.lbl.gov/pdf/2015/Oral_Wednesday/Session9_EUV%20Lithography%20Extendibility/S9.1_Kaiser.pdf
  5. ^ https://new.qq.com/omn/20210315/20210315A0FCVZ00.html
  6. ^有兴趣的话直接看这个 https://webb.nasa.gov/content/observatory/ote/mirrors/index.html#5?ftag=YHF4eb9d17
  7. ^ https://4dtechnology.com/2018/11/11/measuring-up-to-nasas-james-webb-space-telescope/

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