说人话,金属离子是半导体良率第一大杀手,因为任何金属离子落入wafer表面,都会导致电阻率发生巨大变化,导致芯片报废。所以半导体工艺中,需要这种超纯的去离子水,来保证在工艺处理过程中,没有任何离子杂质对wafer造成影响。
有人说了一般都是18兆欧的水。