百科问答小站 logo
百科问答小站 font logo



半导体工艺中为何用去离子水? 第1页

  

user avatar   meng-lian-zi-ran-qiang 网友的相关建议: 
      

说人话,金属离子是半导体良率第一大杀手,因为任何金属离子落入wafer表面,都会导致电阻率发生巨大变化,导致芯片报废。所以半导体工艺中,需要这种超纯的去离子水,来保证在工艺处理过程中,没有任何离子杂质对wafer造成影响。

有人说了一般都是18兆欧的水。




  

相关话题

  处理器的时钟频率是否能高于晶体管的开关次数? 
  钱投入的越多,芯片研发越快吗? 
  美国批准拨款 520 亿美元促进美国芯片的制造研究,将会带来哪些影响? 
  新建 CPU 工厂要投资几十亿美元,钱都花在哪里了? 
  为什么知乎上有关芯片、半导体、嵌入式系统的话题少得可怜? 
  英特尔世界最大芯片工厂计划出炉,将接收首台先进光刻机,其中还有哪些信息值得关注? 
  如何看待 Intel 2021 年7 月 26 号公开的工艺路线图? 
  半导体的机台二次配会勘这份职业有人了解么?前景如何? 
  如何看待俄罗斯最新发布的贝加尔-S芯片? 
  如何看待大陆唯一一台 7nm 光刻机被抵押,武汉弘芯千亿级芯片项目停摆,新员工延迟入职? 

前一个讨论
厦门联芯集成电路有限公司怎么样,半导体行业怎么样,适合应届生的第一份工作吗?
下一个讨论
如何看待技嘉笔记本的宣传词?中国制造是降低品质?





© 2025-02-19 - tinynew.org. All Rights Reserved.
© 2025-02-19 - tinynew.org. 保留所有权利