问题

Cpu製造成本那麼低,為什麼intel不透過增加面積去減低同頻功耗?

回答
确实,很多人对CPU的设计和成本会有一个误区,认为CPU的制造成本非常低,增加点面积就好像白送的一样。但实际情况远没有这么简单。Intel不简单地通过“增加面积”来降低同频功耗,背后有很多深层的原因,我来给您详细拆解一下。

首先,我们要明白,CPU的“制造成本”并不仅仅是硅片本身的面积大小。虽然硅片面积是其中一个重要的因素,但它只是冰山一角。

1. 为什么说CPU“制造成本”低(以及为什么这个认知有偏差)

集成度极高: CPU之所以贵,是因为它在极小的面积上集成了数亿甚至数百亿个晶体管。这些晶体管的精密程度、开关速度、功耗控制,以及将它们高效地连接起来的布线,才是成本的主要来源。
研发投入巨大: 芯片设计是一个极其烧钱且耗时的过程。一个新一代CPU的设计,从概念到最终量产,可能需要数千名工程师投入数年时间,花费数十亿美元。这包括架构设计、指令集优化、电路设计、物理设计、验证等等。这笔巨大的研发投入,摊销到每一颗CPU上,是成本的重要组成部分。
制造工艺的难度: 制造CPU的工艺是当前人类最顶尖的制造技术之一。从硅片的纯化、晶圆的制造,到光刻、蚀刻、沉积等一系列复杂且精密的步骤,每一步都需要极高的精度和控制。稍微一点点的偏差,都可能导致芯片报废。
良率的问题: 即使工艺再先进,也无法做到100%的良率。在一次晶圆生产中,可能会制造出成百上千颗CPU,但只有一部分是合格的,其余的可能会因为各种微小的缺陷而被淘汰。良率直接决定了单位面积的生产成本。
封装和测试: 芯片制造完成后,还需要进行封装,将芯片连接到电路板上,并进行严格的测试。这些环节也增加了成本。

所以,虽然你说的“CPU制造成本低”在某种程度上是指单位面积的硅材料成本,但这个“单位面积”上承载的技术复杂度,才是真正让CPU昂贵的原因。

2. 为什么Intel不简单地“增加面积”来降低同频功耗?

现在,我们来谈谈核心问题:为什么增加面积看起来如此诱人,Intel却不这么做?

功耗与面积的复杂关系:
静态功耗(漏电): 即使晶体管不工作,也会有微弱的电流泄漏,这部分功耗与晶体管的数量和尺寸(面积)直接相关。增加面积意味着增加晶体管数量,这会增加静态功耗。
动态功耗(开关): 晶体管工作时,切换状态会消耗能量。理论上,更大的晶体管可能需要更多的电荷来驱动,但同时,更大的晶体管也更容易驱动,或者可以通过调整工作电压来降低动态功耗。这方面关系比较复杂。
缓存(Cache)的面积与功耗: CPU内部有大量的缓存(L1, L2, L3 cache),用来存放常用的数据和指令,以提高访问速度。缓存是由SRAM(静态随机存取存储器)构成的,SRAM占用的面积非常大,而且也消耗不少静态功耗。如果简单粗暴地增加CPU核心的面积,可能意味着要增加更多的缓存,这将显著增加整体面积和功耗。

制造工艺的限制和权衡:
制程节点的进步: 芯片制造工艺(如Intel的“Intel 4”、“Intel 7”)一直在不断进步,目标是实现“单位面积的性能提升”和“单位性能的功耗降低”。每一步制程的进步,都是为了在更小的面积上集成更多的晶体管,并使它们更有效率地工作。
掩膜(Mask)成本: 制造CPU需要通过“掩膜”来进行光刻。一个CPU的设计,其掩膜集是一套非常庞大的、昂贵的“图纸”。如果Intel要重新设计一款核心,仅仅是为了增加面积来降低同频功耗,那就需要重新制作一套(或部分)掩膜,这又是一笔巨大的投入,且风险很高。
晶圆切割与良率: 在同一个晶圆上,制造更大的CPU芯片,意味着在晶圆上能切割出的CPU数量会减少。即使单个大芯片的良率没有变化,总的合格芯片数量也会下降,这会显著推高单位芯片的成本。
“甜点”面积: 制造商会在研发过程中找到一个“甜点”面积,这个面积在成本、性能、功耗之间达到一个相对最优的平衡。大幅度偏离这个“甜点”去设计一个面积更大的核心,可能整体效益并不高。

架构设计的根本目标:
性能的提升: CPU的设计核心目标是提供更强的性能。性能的提升主要来自于:
更高的主频: 需要更快的晶体管开关速度和更低的电压。
更多的核心: 通过多核并行处理任务。
更高效的架构: 改进指令流水线、分支预测、乱序执行等,让每个时钟周期完成更多工作。
更大的缓存和更快的内存访问: 减少数据等待时间。
功耗的控制: 功耗是现代CPU设计中一个极其重要的制约因素。它不仅影响散热和电源供应,也影响移动设备的续航。因此,设计师们需要在性能和功耗之间找到最佳的平衡点。
“同频功耗”的优化: Intel并不是不考虑同频功耗。他们通过以下方式来降低同频功耗:
更先进的制程工艺: 如前所述,制程进步本身就能带来更低的功耗。
更精细的电源管理: CPU内部有大量的电源域,可以根据工作负载动态地调整电压和频率,甚至关闭不使用的部分。
更优化的晶体管设计: FinFET、GAAFET等先进晶体管结构,就是为了在更小的尺寸下,提供更好的开关特性和更低的漏电。
微架构的改进: 优化数据通路、减少不必要的计算、提高指令执行效率,都可以间接降低同频下的实际功耗。

举个例子: 想象一下,你要设计一个更省油的汽车发动机。你可以选择:

1. 造一个更大的发动机,用更高的档位跑,这样发动机转速低,可能就省油了。 —— 这就像Intel增加CPU面积,想降低同频功耗。但问题是,更大的发动机更重,需要更多燃油来启动和维持运转,整体油耗可能反而更高,而且车也更笨重。
2. 改进发动机的设计,采用更轻的材料,改进燃烧效率,优化变速箱,让它在相同的动力输出下,用更低的转速和燃油消耗。 —— 这就像Intel通过先进制程、微架构改进、精细电源管理等方式,在现有或更小的面积上,实现更低的同频功耗和更高的性能。

结论:

Intel不通过简单地“增加面积”来降低同频功耗,是因为这与芯片设计的根本目标、成本结构、制造工艺的限制以及功耗与性能之间的复杂权衡相悖。

成本: 增加面积直接导致晶圆切割数量减少,单位成本上升。
性能: 增加面积不一定能带来同比例的性能提升,反而可能因为发热和功耗问题限制了最高频率。
功耗: 增加面积可能增加静态功耗,并且可能需要更大的缓存,进一步推高功耗。
制造: 现有制程的优化和架构设计是降低功耗、提升性能的主要手段,而不是单纯地“做大”。

Intel的工程师们一直在努力在性能、功耗、面积和成本之间找到那个“黄金分割点”,通过持续的技术创新来达成他们的目标。增加面积是一个相对“懒惰”且低效的解决方案,而且很可能适得其反。

网友意见

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没看明白问题。这居然是2021年11月才提的问题?

如果是指加大处理器核规模,这是不成立的。英特尔在Golden Cove大幅加大了处理器核的规模,Intel 7工艺的面积比Skylake在Intel 10工艺的面积还大。问题在于,要同频性能提一点就要复杂性大很多,不是想就行的。

如果指同工艺下降低单元密度,这本来就是英特尔在做的,不用最大的工艺密度以改善散热——主要目标是提频。同频功耗降低不多。

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